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江丰电子年产400吨钼溅射靶材坯料项目结项
发布时间:2020-12-31  浏览量:57

高纯溅射靶材行业介绍



溅射靶材作为一种新材料,对于普通大众而言相对陌生,但我们日常所用的电子产品大多都含有这类新材料。其中,半导体芯片、平板显示器、太阳能电池等下游工业对产品的品质和稳定性等方面有较高的要求,因此对溅射靶材也提出了较高质量要求。目前,我国该行业发展落后于美国和日本等国家。

超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。

江丰电子年产400吨钼溅射靶材坯料项目结项

12月21日,江丰电子发布关于部分募集资金投资项目结项的公告称,由公司控股子公司宁波江丰钨钼材料有限公司(以下简称“江丰钨钼”)承担的公司首次公开发行股票募集资金投资项目之“年产400吨平板显示器用钼溅射靶材坯料产业化项目”已建设完成,该项目的大型设备及产线完成了安装调试,达到了预定可使用状态,其生产的高纯钼靶材坯料品质优良,公司首套自主研发生产的高纯钼溅射靶材已顺利下线,该项目的建成有利于公司垂直整合产业链,实现大力发展高纯金属材料提纯与制备的经营目标,对公司未来发展具有积极意义。

江丰电子表示,为实现公司垂直整合产业链,大力发展高纯金属材料提纯与制备的经营目标,公司结合项目的实际进展情况,为了完成产线优化和产能扩充,保障项目质量,以及更好地适应市场变化和产品技术更新等要求,项目根据规划进行热等静压等设备的购置、安装调试等后续投资和建设,公司于2019年6月13日召开了第二届董事会第十四次会议和第二届监事会第十四次会议,审议通过了《关于部分募集资金投资项目结项或延期的议案》,公司首次公开发行股票募投项目之“年产400吨平板显示器用钼溅射靶材坯料产业化项目”预计可使用状态日期由原定2019年6月14日延期至2020年6月14日。

然而,江丰电子于2020年6月12日再次召开了第二届董事会第二十九次会议和第二届监事会第二十五次会议,审议通过了《关于部分募集资金投资项目延期的议案》,公司首次公开发行股票募投项目之“年产400吨平板显示器用钼溅射靶材坯料产业化项目”预计可使用状态日期由原定2020年6月14日延期至2020年12月31日。

12月1日,江丰电子接受投资者调研时表示,按照目前情况,“年产400吨平板显示器用钼溅射靶材坯料产业化项目”进展顺利,公司钼靶材已经取得了批量订单,待热等静压设备验收完毕后可以开始量产。公司一直以科技创新为动力,紧跟半导体行业的技术发展,目前正在按照既定的发展战略和规划稳步前行,将根据实际情况制定未来扩产计划。



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